高端半导体光刻胶专用高洁净容器

2024-12-03 17:16:50

　　成果简介
　　光刻胶必须在高洁净容器中保存，以避免光刻胶在存放过程过程中金属离子和微小颗粒数增加，导致质量不合格。光刻胶在运输保存过程中应避免日光曝晒，以免光刻胶受到紫外线的影响，导致质量不合格。高洁净容器满足光刻胶必须在低温恒温条件密封运输的要求，以避免光刻胶受到温度、空气中的杂质及水分影响，导致质量不合格。
　　市场应用
　　光刻胶在中国每年大概有400亿人民币的市场，其中大部分是中低端产品，对灰尘颗粒和金属杂质的要求不严格，一般采用塑料容器存储。高端的光刻胶，预计每年将有100亿元的市场容量。对应的对高洁净容器的需求每年将有2到 5亿元的市场需求量。
　　技术优势
　　●自主专利：核心和关键技术自主开发，自主知识产权和专利；
　　●洁净度：高标准进行洁净度控制；
　　●自主性：自行开展生产设备和生产工艺的研发。
　　合作模式
　　战略性融资、技术咨询、技术合作开发
　　联系人：成果转化处
　　联系方式：0577-88017512/cgzh@ucas.ac.cn

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