场发射透射电镜

 

厂商:美国FEI

型号:Talos F200S

价格:900万

功能:用于材料样品的二维和三维高分辨成像,元素空间分析

主要配件和指标

1. 电子显微镜基本单元:加速电压:最高200kV,最低:0kV,信息分辨率:≤0.12nm,超稳定肖特基场发射电子枪;

2. 样品杆:单倾样品杆,CompuStage单倾样品杆,倾斜观察样品;低背景双倾样品杆 ,最大倾斜角度:阿尔法角正负40度 /贝塔角正负 30度;

3. STEM附件:明场以及高角环形暗场探头(HAADF),其中STEM分辨率 0.16nm;

4. 能谱:双SSD能谱探头,最大输出计数率:不低于500kcps,有效探测器面积:≥30 mm²;

5. 相机:像素感应尺寸:4k x4K像素,像素大小:≥14um x14um,在4k x 4k 的全幅分辨率下成像速率不低于25 fps;

6. 其他:具有三维重构功能,配备超薄切片机和冷冻样品杆。

主要操作模式

电子衍射:选区衍射、微束衍射、汇聚束衍射

成像:质厚衬度像、衍射衬度像、相位衬度像、STEM像

成分:微区EDS点、线、面元素分析

表征项目范围:

微观形貌、颗粒尺寸、微区组成、元素分布、晶体结构、结构缺陷、晶界结构和组成等,配备冷冻样品杆,可对辐照敏感样品进行分析表征;

应用:

陶瓷粘土矿物组成及颗粒组成,金属金相分析、断口分析,高分子材料和纳米结构形态观察和元素分析,广泛应用于纳米技术和半导体技术。