高真空离子溅射仪　High Vacuum Ion Sputtering Instrument

厂商：Leica

型号：EM ACE600

价格：41.8万

技术指标：可任选离子溅射模式，碳丝蒸发镀碳模式，碳棒（热阻）蒸发模式，电子束蒸发模式，双溅射模式，溅射-碳丝模式，溅射-碳棒模式，溅射-电子束模式，双电子束模式，可兼容EM VCT100冷冻传输系统，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）； 2）ZL设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度； 3）内置石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm； 4）全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程； 5）触摸屏控制，简单方便； 6）采用隔膜泵+涡轮分子泵，无油真空系统，真空度2×10-6mbar； 7）溅射电流：0-150mA可调； 8）方形样品仓ZL设计，样品仓尺寸：200mm（宽）×150mm（深）×195mm（高）； 9）样品台内置旋转，工作距离调节范围：30mm-100mm。

仪器配置：旋转样品台、隔膜泵、涡轮分子泵、膜厚检测仪、辉光放电模块、石英晶振片、钳靶、碳丝、电脑。

应用：Leica EM ACE600 是一款高真空镀膜仪，真空泵采用隔膜泵和涡轮分子泵，无油真空系统，真空度可达2×10-6mbar。镀膜细腻均匀，内置石英膜厚检测器，可精确控制镀膜厚度。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下的触摸屏控制，简单方便。仪器可选离子溅射镀金属膜，满足高分辨场发射扫描电镜（FESEM）需求。可选碳丝蒸发镀碳膜，用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。还可以选择电子束蒸发方式镀膜，获得极其细腻的金属膜与碳膜，可用于DNA投影等特殊用途。